快科技5月10日音书，近日，一则"上海微电子28nm浸没式DUV光刻机完成首批批量录用"的音书刷屏半导体圈。
对此，芯智讯发布著述辟谣，直指该音书存在多处严重事实迂回。
著述领先质疑了报说念的信源问题。该报说念仅以"据报说念"暧昧其辞，莫得说起任何具体的巨擘开始，这关于光刻机这么的关键科技新闻来说，昭着零落基本的严肃性。
报说念宣称"2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上初度官宣SSA800系列拆开全面量产"。但看望发现，这个所谓的“长三角半导体产业峰会”莫得任何巨擘媒体报说念，查不到举办时候、处所、垄断方等任何基本信息。上海微电子官方也从未发布过关联公告。网上所筹商于该峰会的内容，沿途皆是与"上海微电子官宣量产"绑定的自媒体通稿。
另一个作假说法是"2026年3月SEMICONChina展会上，上海微电子初度公开展示了SSA800样机"。芯智讯记者明确暗意，我方其时就在展会现场，上海微电子的展台上根柢莫得这款成就。展会时代及拆开后，也莫得任何正规媒体报说念过此事。
最离谱的是"量产良率90%~95%"的说法。一位光刻机厂商里面东说念主士直言："这是假音书，光刻机那儿来的良率。"光刻机是坐褥芯片的成就，自己不存在"良率"这一标的。
即便指的是用它坐褥芯片的良率，这个数字也过于夸张。要知说念台积电28nm工艺2011年量产后，直到2012年8月良率才对付跨越80%。
一位国内晶圆代工场东说念主士清楚，当今SSA800系列并未参预任何营业化晶圆厂，仍然在集成电路研发中心（ICRD）进行测考试证。所谓的"首批批量录用"和"量产工艺考据"均与事实不符。
据了解，SSA800履行上即是近几年市集一直听说的国产“28nm光刻机”，是一款193nmArF浸没式光刻机，套刻精度放置在2.3~2.5nm，每小时可搞定150片晶圆，对标的是ASML TWINSCAN NXT:1950i。后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，搀和匹配套刻精度为3.5nm，每小时可搞定200片晶圆。
著述临了暗意，期盼国产光刻机打破是每一个中国东说念主的朴素阵势，但越是渴慕，越应该守住感性底线。虚假的"放卫星"不仅会误导公众，还会禁锢产业链沉稳攻坚的严肃性。
信得过的时刻解围，从来不需要靠炒作来证实我方。
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